神光光学申请制备低羟基浓度高光学均匀性合成石英玻璃专利使得边部和芯部的密度差缩小国家知识产权局信息显示，神光光学集团有限公司申请一项名为“一种制备低羟基浓度、高光学均匀性的合成石英玻璃的设备及方法”的专利，公开号CN121426432A，申请日期为2025年9月。

　　专利摘要显示，本发明提供一种制备低羟基浓度、高光学均匀性的合成石英玻璃的设备及方法，属于石英玻璃合成技术领域。该设备包括：反应腔室、升降牵引杆、原料燃烧器和低温气排。低温气排的输出末端位于反应腔室内，其气体输出方向与升降牵引杆的轴向方向的夹角为0°~20°；升降牵引杆的轴向方向、原料燃烧器的气体输出方向以及低温气排的气体输出方向三者相交于一点，且成型过程中Soot体的最低端位于交点附近。该方法包括Soot体初始成型后逐步开始向Soot体的最低端位置处持续吹入温度低于氢氧焰温度的惰性气体。本发明通过起着热流耦合作用改善成型中的Soot体沉积表面边部和芯部的温度差，从而使得边部和芯部的密度差缩小。

　　天眼查资料显示，神光光学集团有限公司，成立于2012年，位于成都市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本18607.4012万人民币。通过天眼查大数据分析，神光光学集团有限公司共对外投资了11家企业，参与招投标项目50次，财产线条，此外企业还拥有行政许可19个。

　　声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。